旋转硅靶

～硅旋转靶材～

化学组成:Si（硅）
制作工艺:HPS
密度:2.2g/cm3（＞95%）
电阻系数（20°）:＜1Ω．㎝
纯度:＞99.95
旋转尺寸:4000㎜×9t㎜

杂质含量(Unit:ppm)

～Nb2OX旋转靶材～
化学组成:Nb2Ox
制作工艺:HPS
密度:4.3g/cm3（＞95%）
电阻系数（20°）:＜0.1Ω．㎝
纯度:＞99.95
旋转尺寸:4000㎜×10t㎜

杂质含量(Unit:ppm)

～铝旋转靶材～
化学组成:AL（铝）
制作工艺:One-batch forming
密度:2.7g/cm3（＞99.99%）
纯度:＞99.99%
旋转尺寸:4000㎜×10t㎜

杂质含量(Unit:ppm)

～铬旋转靶材～
化学组成:Cr（铬）
制作工艺:HPS
密度:6.8g/cm3（＞95%）
纯度:＞99.5
旋转尺寸:4000㎜×10t㎜

杂质含量(Unit:ppm)

～AZO旋转靶材～
化学组成:ZnO.Al2O3(98:2wt%)
制作工艺:HPS
密度:4.3g/cm3（＞95%）
纯度:＞99.95%
电阻系数(20°）:＜0.0005Ω.cm
旋转尺寸:4000㎜×9t㎜
杂质含量(Unit:ppm)

上一个：没有资料

下一个：没有资料